Η ASML και η Carl Zeiss αποκάλυψαν την επόμενη μεγάλη τεχνολογική στροφή στην κατασκευή προηγμένων chips: ένα νέο σύστημα λιθογραφίας που ονομάζεται Hyper NA.
Σύμφωνα με peer-reviewed μελέτη, η τεχνολογία θα μπορούσε να είναι έτοιμη περίπου μέσα στην επόμενη δεκαετία και να επιτρέπει την εκτύπωση ακόμη μικρότερων χαρακτηριστικών πάνω στα chips.
Στόχος τα 5 νανόμετρα
Το Hyper NA σχεδιάζεται ώστε να μπορεί να εκτυπώνει χαρακτηριστικά έως περίπου 5 νανόμετρα, πάνω από ένα τρίτο μικρότερα από όσα επιτυγχάνει η σημερινή High NA EUV τεχνολογία.
Γιατί έχει σημασία
Μικρότερα κυκλώματα σημαίνουν θεωρητικά υψηλότερη υπολογιστική ισχύ, μικρότερη κατανάλωση ενέργειας και δυνατότητα για ακόμη ισχυρότερα AI chips.
Η ASML έχει ήδη ξεκινήσει την ανάπτυξη, χωρίς ακόμη να έχει δεσμευτεί για πλήρη εμπορική παραγωγή.
Το ευρωπαϊκό μονοπώλιο
Η ASML παραμένει η μοναδική εταιρεία στον κόσμο που κατασκευάζει σε μεγάλη κλίμακα μηχανές EUV λιθογραφίας, γεγονός που την καθιστά κρίσιμο κρίκο στην παγκόσμια αλυσίδα ημιαγωγών.
Πηγή: Reuters, Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology, 8 Οκτωβρίου 2026.

FEATURED
FEATURED
FEATURED
Αφήστε μια απάντηση